装备+工艺整体方案
自研30000PSI微射流均质机 + 七大核心工艺平台 | 提供装备选型、工艺开发、产线建设整体解决方案
硬科技底座
自研30000PSI微射流均质机，与国际主流超高压微射流技术同路线，具备参数与本地服务优势，核心部件自主可控。全系列生产设备自主可控，具备国际化合规认证资质。持有已授权发明专利6项、实用新型13项、软件著作权5项，另有8项发明专利申请中，构建坚实技术壁垒。核心部件自主可控：从核心装备到多场景应用，构建"装备+工艺"的双重技术服务能力。
迈克孚微射流均质机装备矩阵
| 系列 | 型号 | 定位 | 核心参数 |
|---|---|---|---|
| 实验型 | MF110P/MF110IP | 实验室研发与小试 | 30,000PSI，处理量20ml起，220V家用电源 |
| 中试型 | MF7115/MF7125 | 中试放大与工艺验证 | 24-60L/h，支持从桌面型直接放大，线性参数转移 |
| 生产型 | MF7250/MF500 | 工业化批量生产 | 120-500L/h，满足GMP审查要求的设计与文件体系，连续化运行 |
| 量产型 | MF710 | 大规模量产级装备 | 500-700L/h，可集成自动化生产线，多班制连续运行 |
整体方案交付内容
装备选型与供应
根据产能需求与工艺特性，匹配合适设备型号与配置方案
工艺开发
基于七大核心技术平台，开发定制化纳米制备工艺
产线建设支持
GMP车间规划、产线布局设计、设备集成调试
技术培训
设备操作培训、工艺参数优化、质量控制SOP建立
GMP审查要求支持
协助满足GMP审查要求的设计与文件体系，支持工艺验证（PPQ）
持续技术支持
远程技术支持、定期回访、工艺优化升级
E/V≈ΔP线性放大准则
迈克孚的微射流工艺放大准则，支持从实验室到中试到生产的工艺参数线性转移，无需重新摸索工艺窗口，大幅降低放大风险与成本。
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实验室小试2
中试放大3
规模化生产