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技术原理

超高压微射流均质技术的工作原理与核心机制

微射流均质机是如何工作的?

超高压微射流均质机(Microfluidizer)利用高压泵将物料加压至30,000-45,000 PSI, 通过金刚石交互容腔的微小通道(孔径约50-300微米), 物料被加速至超音速,在通道内产生强烈的剪切力、碰撞力和空化效应, 实现颗粒的纳米级分散和粒径控制。

超高压微射流工艺流程图

超高压微射流工艺流程图
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剪切力

高速流动产生的层流剪切将颗粒撕裂至纳米级。剑桥石墨烯中心实测局部剪切率高达约10⁸ s⁻¹(Karagiannidis et al., ACS Nano 2017)

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碰撞力

两股高速射流正面对撞,动能直接耗散于颗粒破碎。粒径与能量符合Kolmogorov湍流标度 d∝P^(-3/5)(Moghaddam et al., 2015验证)

空化效应

局部低压区产生空化气泡并瞬间溃灭释放冲击波。研究表明撞击与剪切为破碎主因、空化为辅助因素(Kleinig & Middelberg, 1998)

核心技术参数

30,000 PSI
最高压力
50-200 nm
粒径范围
<0.2-0.3(学术惯例)
PDI
线性放大(E/V≈ΔP)
放大方式
金刚石交互容腔(PCD)
核心部件
1-5 ms
停留时间

⚠️ 过加工(Over-processing)现象:为什么不是压力越高越好?

升压同时加快液滴破碎速率与碰撞频率,当碰撞快于乳化剂在新界面的吸附时即发生再聚并,粒径与PDI同步回升。 四个独立研究、三个体系、跨越15年的证据链指向同一结论:

  • Jafari系列三项研究(2006/2007a/2007b):优选窗口收敛于40-63 MPa(≈5,800-9,100 psi)
  • Yuan等 β-胡萝卜素体系:&gt;100 MPa后4周储存稳定性反而下降
  • Bai等 2019年CNC Pickering体系:19 kpsi(≈131 MPa)出现粒径回升
  • Asasutjarit等 2021年穿心莲内酯体系:20,000→25,000 psi粒径与PDI同步回升
工程含义:微射流工艺开发不是"开足压力",而是以DoE/响应面寻找处方专属窗口。设备的价值在于"精准可控"而非"压力上限"。

微射流技术介绍视频

全面了解超高压微射流均质技术原理与应用

常见问题

Q: 微射流均质机的工作原理是什么?Y 型和 Z 型容腔有什么差别?

A:

微射流均质机将物料加压至最高 30,000 PSI,在金刚石交互容腔内形成超音速射流,通过剪切、对撞与空穴三重效应实现纳米分散。Y 型容腔两股射流对撞、分散强度高;Z 型容腔单流道折转,对高固含、高粘度物料更友好。 Y 型(交互对撞型):两股射流在容腔中心正面对撞,能量利用效率高,适合脂质体、纳米乳等需要强分散力的体系。

Z 型(折转剪切型):物料在折转流道中经历连续剪切,流道更"耐造",适合含固体颗粒、粘度较高的浆料(如电池浆料、CMP 抛光液)。

具体选型取决于物料特性与目标粒径,可在来样测试中用两种容腔平行验证,以数据决定配置。

Q: 微射流均质机可以把粒径做到多细?PDI 能控制到多少?

A:

微射流均质机可将粒径控制在 100nm 以下(视物料体系而定),分散指数 PDI 严格控制在 0.2 以内。粒径与分布由压力、循环次数与容腔结构共同决定——这正是固定几何结构容腔的优势:参数一致,结果可重复。 需要注意:最终粒径由物料本身的物性(配方、固含、粘度、玻璃化温度等)与工艺参数共同决定,设备决定的是"能施加多大能量、施加得多均匀"。迈克孚 3000+ 应用案例中,CMP 抛光液体系实测粒径降幅达 78%(特定条件下),脂质体体系 PDI 普遍可控制在 0.2 以内。

评估自己物料能达到的粒径水平,最可靠的方式是来样测试——用真实物料跑参数,出具实测数据报告。

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